1. 脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。

2.三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

3.用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。

4. 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

5. 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

6.成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。

7.对于反应溅射，可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。

8. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

9. 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。

10. 对于反应溅射，可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。

11. 通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

12.用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

13.反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。

14.用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。

15. 现在反应溅射法已被广泛应用于切削刀具、成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。

16. 用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。

17.通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

18.研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。